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掺杂Sc的AlN薄膜因其压电性能的显著提升而备受关注
5G通信中的带宽都在GHz范围,明显高于目前的蜂窝服务。这些更高的频率使得使用体声波(BAW)技术来开发新一代射频滤波器成为必然。BAW滤波器是一种基于压电的声学谐振器,其频率和带宽由压电元件的几何形状、压电材料的特性、薄膜厚度以及相关电极的几何形状和特性决定。与传统的声表面波谐振器相比,薄膜体声波谐振器具有更高的谐振频率和品质因子。
目前,薄膜体声波谐振器常用的压电材料有ZnO、PZT、AlN。其中,AlN与CMOS工艺的兼容性最好,而且AlN没有工业界FAB厂担心的Zn、Pb、Zr元素与其他元素结合的污染。近十年来,AlN压电薄膜及其器件的制备技术不断提高,成熟产品已应用于通信领域。然而,掺杂Sc的AlN薄膜因其压电性能的显著提升而备受关注。
制备AlScN薄膜的方法及探索方向
目前制备AlScN薄膜的方法主要有两种:
一.A l靶和Sc靶共同溅射
通过调节各个靶的溅射功率,制备不同化学配比的AlScN薄膜。在沉积过程中通入N2,使溅射出的Al和Sc原子与N原子反应,再在基底上沉积出AlScN薄膜。然而,与两个靶之间的空间距离会引成薄膜中成分和相分布的变化,因而这种方法常用于实验室开创性研究。诚然,其薄膜的化学比和相组成会有较大的波动,其均匀性不易控制。
内容来源:言智 博士
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